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CVD鉆石光學元件材料
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2026-02-09
- 產(chǎn)品介紹：CVD鉆石光學元件材料這種鍍膜對于暴露在惡劣環(huán)境中的光學器件，以及需要經(jīng)常清潔的應用，如切割、鉆孔、劃線和打標，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩(wěn)定性敏感的應用的理想選擇。
- 廠商性質：經(jīng)銷商
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子/電池 |
CVD鉆石光學元件材料
鉆石鍍膜抗反射ZnSe
鉆石鍍膜抗反射ZnSe元件材料
II-VI's Diamond OverCoat (DOC)是一種混合型抗反射（AR）鍍膜，比傳統(tǒng)的Ge類金剛石碳（DLC）鍍膜具有更高的光學性能，比標準的AR設計具有更好的耐久性。這種鍍膜對于暴露在惡劣環(huán)境中的光學器件，以及需要經(jīng)常清潔的應用，如切割、鉆孔、劃線和打標，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩(wěn)定性敏感的應用的理想選擇。
DOC/AR鍍膜通常應用于光學器件的一面，但也可以應用于兩面。反射性鍍膜的DOC設計也可用于鏡面。
可清洗
特別設計的防金屬濺射功能
防刮傷
輕松去除附著在光學表面的灰塵、污垢等雜物。
高傳輸
與傳統(tǒng)的DLC鍍膜相比，性能有所提高
吸收率低，熱穩(wěn)定性好
多用途
可在各種基材上進行透射和反射應用。ZnSe、銅、鉆石、SiC、硅、其他
可提供非釷版本
單一波長和寬帶波長可供選擇
鍍膜可適用于各種幾何形狀
特性
材料——硒化鋅
| 規(guī)格 | 標準 |
| 尺寸公差 | 直徑：+ 0.000 / - 0.127mm |
| 邊緣厚度變化 (ETV) | < 3 弧分 |
| 通光孔徑 | 直徑的 90 % |
| 0.63 µm 處的表面圖形（功率/不規(guī)則性） | 1.0 條紋 / 0.5 條紋（12.7 毫米 - 63.5 毫米直徑） |
| 表面質量 | 20 - 10 |
| 10.6 µm處每個表面的增透膜反射率 | < 0.2 % |
| 直徑 | 10 毫米 - 300 毫米 |
鍍膜 DOC/AR
| 基材 | ZnSe |
| 可用的光譜范圍 | 9.2 - 10.7 µm |
| 9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能 | 透射率 > 98.5 %（通過兩個表面） 反射率 < 0.2 %（每個表面） |
環(huán)保性能
該鍍膜旨在滿足以下 MIL 規(guī)范的耐用性要求：
3.4.1.1 附著力
3.4.1.2 濕度
3.4.1.3 中度磨損
3.4.2.1 溫度
3.4.2.2 溶解性和清潔性
光譜性能
9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能
每個表面反射 < 0.2 %
透射率 > 98.5 %
吸收率 < 0.9 %
這種鍍膜可以設計成在其他 CO2 波長下具有類似的性能。
CVD鉆石光學元件材料
多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長期以來一直被認為是各種應用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導熱性使它在熱管理應用中非常有用。其廣泛的光學傳輸范圍使金剛石窗口能夠進入半導體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應用開發(fā)開辟了一個完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒有電子陷阱，使其成為高能應用中使用的超敏感核探測器的理想材料。
通過等離子體化學氣相沉積法生長，II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過優(yōu)化，充分利用了使鉆石成為超級材料的品質。II-VI Incorporated將晶體生長與較*的光學級加工相結合，通過整形和拋光、質量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開發(fā)的強烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質的所有市場客戶密切合作。
透明窗和光學器件
在II-VI ，光學金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質光學質量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。
通過利用制造和涂層方面的核心技術，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌，這對下一代半導體制造的*光刻工具至關重要。
熱管理解決方案
通過調整我們的生長過程，II-VI ，已經(jīng)開發(fā)出為各種高性能熱管理應用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導率的規(guī)格范圍高達2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設施，我們能夠根據(jù)客戶的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設備的優(yōu)良的熱接觸。
微波透明光學器件
II-VI 制造高質量的鉆石光學產(chǎn)品，在微波區(qū)域是透明的。結合我們內(nèi)部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經(jīng)準備好滿足核聚變研究等領域對微波透明材料的需求。
加工解決方案
II-VI 已經(jīng)開發(fā)出一種金剛石薄膜，在加工較堅硬的材料時，擁有堪稱*的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術與我們內(nèi)部的激光制造設施相結合，我們能夠以有競爭力的價格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。
核檢測器解決方案
使用精細調整的超高純生長工藝，II-VI ，生長出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結果。
主要的CVD鉆石應用
CVD金剛石的應用包括多光譜激光光學、介電窗、散熱片等。
金剛石是各種應用的終/極材料，因為它具有出色的性能，包括極/強的硬度和強度、高導熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學傳輸。
我們在較*的生長和制造設施中生產(chǎn)高質量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學氣相沉積工藝生長，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶的要求對表面進行加工。我們還提供其他特殊的制造服務，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學組件的設計和制造。II-VI ，專門為金剛石基片提供*的光學涂層，包括單波長或多光譜應用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。
用于工業(yè)激光應用的高功率CO2激光窗口（10微米范圍）。
用于工業(yè)或研究應用的高功率多光譜激光窗口。
用于聚變和定向能應用的高功率mm波窗口
用于極/端熱管理應用的熱擴散器
用于需要超硬材料的機械應用的產(chǎn)品。
主要的CVD鉆石應用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工業(yè)激光器
高功率微波窗
- 陀螺儀、聚變反應堆
- 雷達、定向能應用
熱管理
- 散熱器
| 生長方法 | 等離子化學氣相沉積 |
物理特性
| 結構 | 立方，多晶 |
| 晶粒大小 | 取決于厚度和工藝（0.05 - 1mm） |
| 等級 | 光學、熱、微波、探測器、機械、客戶定制 |
| 厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
| 尺寸 | 激光切割客戶規(guī)格，最大直徑145mm |
| 尺寸公差 | +/- 50µm |
| 拋光縱橫比 | 高達 50:1 的直徑高達 145 mm |
| 功率 | <0.5_fr/cm |
| 不規(guī)則度 | <0.5_fr/cm |
| 透射波前 | <0.5_fr/cm |
| 表面粗糙度 | <15nm |
熱性能（熱級材料）
| 導熱系數(shù) | 室溫下高達 >2,200 (W/mK) |
| 熱膨脹系數(shù) | 1 (10-6 K-1) |
| 比熱 (25oC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光學特性（光學級材料）*
| 體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
| 體積吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
| 散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波級材料
| 微波損耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*這代表標準生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。
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