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產(chǎn)品詳細(xì)頁

雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡

產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-02-08
產(chǎn)品介紹：雙波段低 GDD 超快/阿秒多層反射鏡
TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用，因?yàn)樗鼈儗⒈３殖堂}沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
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產(chǎn)品介紹

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學(xué)元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

雙波段低 GDD 超快反射鏡

用于超快光束轉(zhuǎn)向的高反射率和低 GDD
離子束濺射鍍膜最大限度地減少散射和吸收損失
設(shè)計波長范圍內(nèi)的近零群延遲色散

TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡在常見的 Yb 摻雜激光諧波頻率上保持高反射率和接近零的群延遲色散。利用離子束濺射鍍膜技術(shù)，這些反射鏡將使用其他傳統(tǒng)鍍膜工藝時常見的散射和吸收損失降至最/低。 TECHSPEC® 雙波段低 GDD 超快反射鏡通常用于光束控制應(yīng)用，因?yàn)樗鼈儗⒈３殖堂}沖持續(xù)時間，而使用更傳統(tǒng)的激光反射鏡時很難保持這種持續(xù)時間。

通用規(guī)格

入射角 (°):	45	鍍膜類型:	S1: Dielectric S2: Stress-compensating
波長范圍 (nm):	500 - 540, 1000 - 1070		S1: Dielectric S2: Stress-compensating
后表面:	Commercial Polish	鍍膜規(guī)格:	R_s>99.9% @500-540nm; R_p>99.8% @505-530nm; R_s>99.9% @1000-1070nm, R_p>99.8% @1000-1070nm
基底:	Fused Silica
平行度（弧分）:	<3
有效孔徑 (%):	>90
典型應(yīng)用:	Beam transport of 1st and 2nd harmonic of Yb:doped lasers		<35fs²@ 500 - 540nm (s-pol) <50fs²@ 505 - 530nm (p-pol) <20fs²@ 1000 - 1070nm (s-pol) <40fs²@ 1000 - 1070nm (p-pol)
鍍膜:	Ultrafast (500-540, 1000-1070nm)
表面質(zhì)量:	10-5	GDD Specification:
設(shè)計波長 DWL (nm):	515, 1030

產(chǎn)品型號

標(biāo)題	產(chǎn)品編碼
515, 1030nm, 12.7mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-286
515, 1030nm, 25.4mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-287
515, 1030nm, 50.8mm Dia., Dual Band Low GDD Mirror	#17-288

UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多層反射鏡

設(shè)計用于 330 阿秒脈沖 @ 65eV (19nm)
具有 38% 峰值反射率的多層鍍膜
≤1? 表面粗糙度超拋光基材
13.5nm 設(shè)計的 EUV 平面鏡和 EUV 球面鏡也可提供

UltraFast Innovations (UFI) 極紫外 (EUV) 阿秒多層反射鏡專為控制、聚焦和整形阿秒脈沖而設(shè)計。它們的多層鍍膜以 65eV (19nm) 為中心，帶寬為 6eV (1.8nm)，為 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。這些反射鏡支持時間持續(xù)時間為 330 阿秒的 EUV 脈沖。 UFI 極紫外 (EUV) 阿秒鏡非常適合基于高次諧波 (HHG)、自由電子激光器 (FEL) 或其他量子光學(xué)應(yīng)用的阿秒脈沖生成和整形。提供直徑為25.4mm的平面鏡和凹面鏡；如果您的應(yīng)用需要具有定制中心能量、帶寬或其他規(guī)格的 EUV 多層反射鏡，請聯(lián)系我們。

通用規(guī)格

直徑 (mm):	25.40 ±0.13	基底:	Fused Silica
后表面:	Commercial Polish	鍍膜規(guī)格:	Rs > 38% @ 65eV/19nm
表面質(zhì)量:	10-5	鍍膜:	EUV Multilayer (19nm)
入射角 (°):	5	有效孔徑 (%):	80
設(shè)計波長 DWL (nm):	19	邊緣:	Fine Ground
表面粗糙度（埃）:	<1	Center Energy (eV):	65 ±2
Bandwidth (eV):	6	Supported Pulse Duration:	330 attoseconds
邊緣厚度 ET (mm):	6.35 ±0.20

產(chǎn)品型號

標(biāo)題	產(chǎn)品編碼
25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror	#16-765
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror	#16-766
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror	#16-767

技術(shù)數(shù)據(jù)

超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡

用于 Ti:sapphire 和 Yb:doped 激光器的超快增強(qiáng)型銀膜
600 - 1050nm 范圍的群延遲色散低 (0±20fs²)
<50? RMS 表面粗糙度，以最/大程度地減少散射

TECHSPEC® 超快增強(qiáng)型銀膜離軸拋物面 (OAP) 反射鏡用于準(zhǔn)直或聚焦指/定偏移角度的入射光。這些反射鏡鍍有超快增強(qiáng)型銀膜，在 600 - 1050nm 范圍內(nèi)提供 >99% 的反射率，同時保持 0 ±20fs²的低群延遲色散 (GDD)。這些反射鏡的離軸設(shè)計將焦點(diǎn)與光束路徑分開，從而在焦點(diǎn)周圍提供更多交互空間，而不會干擾入射光束。TECHSPEC 超快增強(qiáng)型銀膜 OAP 反射鏡非常適合聚焦來自中低功率超快激光器的激光，包括 Ti:sapphire 和 Yb:doped 光纖激光器，同時最大限度地減少超快脈沖的時間擴(kuò)展。帶有垂直于光軸的孔的安裝板可用于將這些反射鏡安裝到臺式系統(tǒng)中。

通用規(guī)格

焦距容差 (%):	±1	涂層規(guī)格:	R_avg>99% @ 600 - 1000nm, 0° R_s>99% @ 540 - 1000nm, 45° R_p>98.5% @ ~730 - 870nm, 45°
波長范圍 (nm):	600 - 1050
面形計算 (RMS):	λ/4
偏離角度 (°):	90	鍍膜類型:	Ultrafast Enhanced Silver
表面粗糙度（埃）:	<50 RMS	反射波前, RMS:	λ/8
表面質(zhì)量:	80-50	基底:	Aluminum 6061-T6
涂層:	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)

產(chǎn)品型號

Dia. (mm)	EFL (mm)	涂層	產(chǎn)品編碼
12.70	12.70	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-133
12.70	25.40	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-134
12.70	203.20	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-138
25.40	25.40	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-139
25.40	50.80	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-140
25.40	203.20	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-146
50.80	50.80	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-147
50.80	190.60	Ultrafast-Enhanced Silver (600-1050nm)	#17-152

技術(shù)數(shù)據(jù)

600-1050nm Ultrafast-Enhanced Silver

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